（2009?南京）从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：（1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是（填字母）．（2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质（选琐“活泼”、“不活泼”）．（3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：①整个制备过程必须达到无水无氧．在H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是．②在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是．试题及答案-填空题-云返教育

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（2009?南京）从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：
（1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是（填字母）．
（2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质（选琐“活泼”、“不活泼”）．
（3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：

①整个制备过程必须达到无水无氧．在H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是．
②在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是．

试题解答

B；不活泼；爆炸；HCl；氢气

解：（1）因为硅元素在地壳里含量是第二位，故选B；
（2）利用知识迁移的方法，碳元素的化学性质较稳定，而硅元素的最外层电子数与之同，则其化学性质也应较稳定，故常温下硅的化学性质不活泼；
（3）①整个制备过程必须达到无水无氧．在H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是爆炸；
②在生产过程中物质A可循环使用，根据质量守恒定律的元素守恒，生成物A的化学式是HCl；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是氢气．
故答为：（1）B；（2）不活泼；（3）①爆炸；②HCl；氢气．

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九年级上册北京课改版填空题初三化学

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地壳中元素的分布与含量相关试题